Pluto30是專為研發(fā)而設計的全功能等離子體系統(tǒng)，13.56MHz射頻發(fā)生器和自動匹配網(wǎng)絡電源在整個過程區(qū)域產(chǎn)生均勻的等離子體。Pluto30的真空腔可支持多達7個可調(diào)節(jié)樣品架，以容納各種形狀尺寸的樣品。Pluto30具有多種電極設置，可配置成RIE和PECVD模式，從而擴大了該系統(tǒng)的應用范圍，提供給用戶良好的靈活性。

復旦大學高分子系老師希望用該設備進行等離子體化學反應的實驗，即利用設備產(chǎn)生的等離子體在真空泵和氣體閥門關(guān)閉的情況下與真空腔內(nèi)的物質(zhì)進行化學反應，然后獲取化學反應后產(chǎn)生的新物質(zhì)。此項實驗，對等離子體設備要求有精準的控制，對真空腔的保壓能力有很高的要求。客戶經(jīng)過一番調(diào)研后，最終選擇了我司Pluto系列的Pluto30等離子表面處理系統(tǒng)。

應用領(lǐng)域：

表面活化

提高表面能量以提高材料粘合性：預壓模粘合；預焊線粘合

增強表面膠體流動性：預成型；預倒裝芯片下溢

表面粗糙度和蝕刻

降低表面應力，改善表面粘結(jié)性

灰化和表面清潔

Plasma等離子蝕刻（配備RIE配置)

電介質(zhì)/III-IV材料

納米涂層（配備液體前體輸送裝置）

耐水納米涂層：印刷電路板表面處理

防腐納米涂層：醫(yī)療器械，醫(yī)療植入物